產(chǎn)品型號(hào)：STGP-80-12

爐膛尺寸：Φ80x1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：PECVD系統(tǒng)（等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設(shè)備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內(nèi)形成等離子體，利用等離子的強(qiáng)化學(xué)活性，改善反應(yīng)條件，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長(zhǎng)的一種新的制備技術(shù)，得到基片上沉積出所期望的薄膜，適用于1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積。

產(chǎn)品型號(hào)：STQ-20-17

爐膛尺寸：250*320*250mm

最高溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮?dú)狻鍤狻⒀鯕獾缺Ｗo(hù)氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)

產(chǎn)品型號(hào)：STQ-90-17

爐膛容積：90L

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮?dú)狻鍤狻⒀鯕獾缺Ｗo(hù)氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)。

產(chǎn)品型號(hào)：STQ-500-14

爐膛容積：500L

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮?dú)狻鍤狻⒀鯕獾缺Ｗo(hù)氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)

產(chǎn)品型號(hào)：STQ-8-12

爐膛尺寸：200 x300*120mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應(yīng)用領(lǐng)域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結(jié)構(gòu)，在材料的熱處理過程中，可以通入氮?dú)狻鍤狻⒀鯕獾缺Ｗo(hù)氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質(zhì)材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結(jié)。